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氩离子抛光技术简介：

氩离子抛光技术，又称离子研磨CP截面抛光技术，是利用氩离子束对样品表面或者截面进行轰击，以获得表面光滑的抛光截面和平面样品，而不会对样品造成机械损害。去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。在材料科学、生命科学、地质科学、电子、工业制造等热点领域可发挥重要作用。

氩离子抛光技术特点：

氩离子抛光检测实例

1. 石油地质领域

   
   

   

   无机孔SEM图像
   

   

有机孔SEM图像

用于页岩样品制样，离子平面抛光后的页岩截面揭示样品表面纳米级孔隙。

2.半导体领域

离子切割后的手机柔性屏幕内部结构和材料特征SEM图

3.能源电池材料领域

离子切割后的电池材料截面揭示其内部结构SEM图

使用CP切割＋扫描电镜来研究电极粉末材料、电池循环后的极片、隔膜材料、电池（薄膜电池或固态电池）截面的微观结构和元素组成等，对于了解电池及其材料的内部结构、反应机理、失效机制等具有重大意义。

4.新材料领域

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ArNanoFab 100 氩离子抛光机具有高效性、可靠性，能够在短时间内完成高强度、高硬度材料的抛光，并且可以精确控制抛光过程，保证抛光效果的稳定性和一致性。